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真空镀膜系统生产厂家诚信企业推荐「在线咨询」
2020-08-31






薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。扩散泵的油蒸汽压是决定泵的极限真空的重要因素,因此尽量选用饱和蒸汽压低的泵油,其化学特性要好。

2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。在集成电路制造中晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线等,多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。

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多功能真空镀膜机

真空镀膜机工作时,需要先抽真空,使真空室处于真空状态,再进行镀膜;镀膜完成后,需要向真空室充气。现有技术中,真空镀膜机的充气管道直接与外界连通,容易把外界空气中的灰尘带入真空室,导致镜片上吸附灰尘,造成产品不良真空蒸渡金属薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子加热使金属熔融气化,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜,其中被镀金属材料用的1多的是铝,在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄或镀铝纸,在镀铝薄膜生产过程中对于真空条件是有严格限定的,真空度过高或过低都会影响镀膜的性能,目前,工厂里使用的镀膜机对于真空度的控制并不是很稳定,导致生产过程中产品的性能不够稳定,因此,解决生产过程中镀膜机里的真空度不易控制的问题尤为重要,而且内部镀膜物件的温度高,需要及时降温,提高工作效率。第五,掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻,把时刻掌握好,确保检漏仪器作业到位,时刻少了,检漏作用必定差,时刻长了,糟蹋检漏气体和人工电费。

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真空镀膜设备真空泵的选择

真空泵工作时产生的振动对工艺过程及环境有无影响。若工艺过程不允许,应选择无振动的泵或者采取防振动措施。

了解被抽气体成分,气体中含不含可凝蒸气,有无颗粒灰尘,有无腐蚀性等。选择真空泵时,需要知道气体成分,针对被抽气体选择相应的泵。如果气体中含有蒸气、颗粒、及腐蚀性气体,应该考虑在泵的进气口管路上安装辅助设备,如冷凝器、除尘器等。

真空泵在其工作压强下,应能排走真空设备工艺过程中产生的全部气体量。

真空设备对油污染的要求。若设备严格要求无油时,应该选各种无油泵,如:水环泵、分子筛吸附泵、溅射离子泵、低温泵等。如果要求不严格,可以选择有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、挡油阱等,也能达到清洁真空要求。


数据提供:天助网    
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